E4C-E2C-NUVA2

Sistemi di polimerizzazione a lampade UV

I sistemi di lampade al mercurio sono una fonte di luce UV efficiente e consolidata per i processi industriali e sono ancora in uso oggi…

Sistemi di polimerizzazione a lampade UV

Questi prodotti utilizzano lampade a vapori di mercurio a media pressione come sorgente di luce UV. A seconda del livello di potenza, della lunghezza della lampada e del processo di stampa, GEW dispone di vari sistemi di lampade con diversi metodi di raffreddamento per soddisfare una vasta gamma di applicazioni di irradiazione UV.

Identificate il prodotto giusto per la vostra applicazione utilizzando la tabella seguente oppure andate direttamente al prodotto facendo clic sui collegamenti seguenti:

ProdottoPotenza elettrica maxLunghezza massimaSezione trasversale standardRaffreddamento
E2CFino a 180W/cmFino a 70cm110mm x 236mmAria
E4CFino a 220W/cmFino a 250cm110mm x 190mmAria e acqua
NUVA2Fino a 200W/cmFino a 250cm145mm x 293mmAria
Sistema di essiccazione UV GEW E2C

E2C

Il sistema di polimerizzazione con lampada UV raffreddata ad aria più efficiente della sua categoria. A 180 W/cm E2C è il prodotto UV standard de facto installato su molte delle principali macchine da stampa a bobina del mondo con oltre 75.000 unità prodotte.

Sistema di polimerizzazione UV E4C

E4C

Cassetta compatta per lampada UV raffreddata ad aria o ad acqua per applicazioni industriali e di stampa. Fino a 220 W/cm con una larghezza fino a 250 cm, è perfetto per applicazioni a bobina o a foglio. E4C è l’apice dell’ingegneria GEW.

NUVA2

NUVA2

Con polimerizzazione UV completamente raffreddata ad aria fino a 250 cm di larghezza, NUVA2 è perfetta per il rivestimento di nastri larghi e applicazioni industriali specializzate. NUVA2 è disponibile con un’ampia gamma di personalizzazioni e opzioni di integrazione.


Apparecchiature periferiche per sistemi ad arco UV

GEW offre anche la possibilità di acquistare componenti del sistema ed extra opzionali per tutti i nostri sistemi di polimerizzazione UV. Per saperne di più su queste opzioni:

Sistema di controllo di precisione DoseGuard di GEW

DoseGuard

DoseGuard è un radiometro a scansione montato sotto la lampada. Fornisce un controllo a circuito chiuso della dose UV al substrato e misura l’emissione UV lungo l’intera larghezza della lampada.

OxyGuard è il sistema di controllo dell'ossigeno di nuova generazione di GEW.

OxyGuard

OxyGuard è il sistema di controllo dell’ossigeno di nuova generazione di GEW. Consiste in una nuova e innovativa camera a gas inerte e in un rivoluzionario software di controllo per la gestione di precisione della concentrazione di ossigeno.

Pantalla táctil GEW HMI

Sistemi di comando della lampada UV

Le nostre lampade LED UV sono supportate da sistemi di controllo all’avanguardia. Scopri di più di seguito…

refrigeratore dalla stampa

Sistemi di raffreddamento della lampada UV

Le nostre lampade LED UV hanno una serie di opzioni di raffreddamento disponibili come refrigeratori e ventole per la vostra stampante…

Sistema di alimentazione RHINO

Sistemi di alimentazione della lampada UV

Le nostre lampade LED UV sono azionate da due alimentatori alternativi. Scopri quale alimentatore fa per te…

Monitor UV multipunto GEW montati sui gruppi lampada NUVA2

Opzioni di personalizzazione

Una varietà di sistemi di polimerizzazione con lampada UV può essere personalizzata per adattarsi all’applicazione della vostra azienda …


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Franco Pagano

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