Sistema di essiccazione UV GEW E2C

Raffreddamento del substrato

Il controllo della temperatura è fondamentale per molte applicazioni. La gamma di opzioni di raffreddamento di GEW garantisce che anche i sistemi UV più potenti non danneggino i substrati.

Raffreddamento del substrato

Il processo di polimerizzazione UV è ad alta intensità energetica e provoca il riscaldamento sia diretto che indiretto del substrato target, che nella maggior parte dei casi deve essere controllato. Per motivi di sicurezza, una qualche forma di barriera dietro il substrato di destinazione per schermare e dissipare le radiazioni vaganti dalla lampada è essenziale per proteggere la macchina e i suoi operatori. I tre metodi più comuni per soddisfare entrambi questi requisiti sono:

  • Dissipatori raffreddati ad aria
  • Dissipatori raffreddati ad acqua
  • Rulli refrigeranti raffreddati ad acqua

Quando il materiale in rotolo viene lavorato, la soluzione più comune è una piastra del dissipatore di calore in alluminio estruso. GEW offre una soluzione molto chiara per questo che è parte integrante del gruppo lampada UV e può essere raffreddata ad aria o ad acqua, a seconda dell’applicazione.  Per la maggior parte dei processi questo metodo è molto efficace, a meno che non vengano utilizzati materiali molto sensibili al calore.

E2C + WC radiatore
Sistema di essiccazione UV GEW E2C
grafico del metodo di raffreddamento

I materiali polimerici sintetici sono sempre più scelti per l’etichettatura, l’imballaggio e altri processi di produzione, e questi sono diventati progressivamente più sottili per essere più economicamente ed ecologicamente fattibili.Questo però ha anche significato che sono diventati progressivamente più sensibili al calore. Molti produttori di macchine da stampa o di rivestimento hanno risposto installando rulli refrigerati su cui montare le lampade UV al posto della solita piastra del dissipatore. 

Laddove i materiali sensibili al calore devono essere polimerizzati con raggi UV su una macchina da stampa o una linea di rivestimento senza rulli di raffreddamento propri, GEW può fornire ai gruppi lampada UV il proprio rullo di raffreddamento integrato di precisione. La bobina può quindi rimanere saldamente a contatto con il rullo mentre passa sotto la lampada UV, mentre il rullo sostiene il materiale e allontana il calore dal processo di polimerizzazione, lasciando il prodotto finito in condizioni incontaminate e accuratamente stampato a registro.

*Questo catalogo è in lingua inglese.


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Franco Pagano

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